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摩方精密

產地：重慶

重慶摩方精密科技股份有限公司致力于將3D打印應用于精密快速成型和直接生產制造。摩方精密（BMF Precision Tech Inc.）成立于2016年，是全球微納3D打印技術及精密加工解決方案的領軍企業。憑借自主創新研發的“面投影微立體光刻”（PμSL）專利技術，實現2μm/10μm/25μm超高打印精度，且兼具±10μm/±25μm/±50μm超高公差控制能力。

產品列表

重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S130 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S130產品特色：該超高精密3D打印設備適用的打印材料為光敏樹脂，光學精度為2μm，最大成型尺寸為50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S230A 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S230A產品特色：該超高精密3D打印設備適用的打印材料為光敏樹脂、陶瓷漿料，光學精度為2μm，最大成型尺寸為50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S140 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S140產品特色：該超高精密3D打印設備適用的打印材料為光敏樹脂，光學精度為10μm，最大成型尺寸為94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S240A 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S240A產品特色：該超高精密3D打印設備適用的打印材料為光敏樹脂、陶瓷漿料，光學精度為10μm，最大成型尺寸為100mm(L)×100mm(W)×75mm(H)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S150 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S150產品特色：該超高精密3D打印設備適用的打印材料為光敏樹脂、生物材料、陶瓷漿料，打印層厚范圍為20～100μm)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S350 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備S350產品特色：該超高精密3D打印設備適用的打印材料為光敏樹脂，光學精度達到25μm，最大成型尺寸為100mm(L)×100mm(W)×50mm(H)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備D1025 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備D1025產品特色：該超高精密3D打印設備適用的打印材料為光敏樹脂、陶瓷漿料，光學精度達到10μm & 25μm，最大加工尺寸為100mm(L)×100mm(W)×50mm(H)。
重慶摩方精密微納級超高精密3D打印設備D0210 重慶摩方精密微納級超高精密3D打印D0210產品特色：該超高精密3D打印機適用的打印材料為光敏樹脂，光學精度達到2μm & 10μm，最大成型尺寸為100 mm(L)×100mm(W)×50mm(H)。

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