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IC觀察顯微鏡L200N/L200ND
產地:上海
品牌:其他
編碼:L200N/L200ND
生產企業:尼康儀器(上海)有限公司
IC觀察顯微鏡L200N/L200ND超高的基本性能之外,更大大提升了觀察性、操作性、耐久性可以觀察的最大硅片直徑為200mm

LSI檢查顯微鏡
超高的基本性能之外,更大大提升了觀察性、操作性、耐久性
可以觀察的最大硅片直徑為200mm
觀察倍率15X~3000X(視目鏡和物鏡的組合而定)
 ECLIPSE L200N 反射照明專用

           L200N   
ECLIPSE L200ND 反射.透射照明專用

           L200ND

觀察性能的提升
擴大檢查范圍的反射熒光觀察(L200ND)新
反射照明觀察,除可進行明場、暗場、微分干涉觀察之外,更可進行UV(365nm)激發的反射熒光觀察。
對于半導體感光薄膜的殘渣、有機EL顯示面板的觀察發揮了很大的威力。
使用物鏡:CFI LU PLAN FLUOR 10X
      
 硅片的明場觀察    暗場觀察      微分干涉觀察    反射熒光觀察
反射熒光觀察用的電動水銀光纖光源[INTENSILIGHT](L200ND)
光源采用了預定心電動水銀光纖光源[INTENSILIGHT]。更換燈泡時不用進行燈絲調心和對焦。
燈箱可與主機分離設置,以降低光源發熱對顯微鏡的影響。6段式的調光機能和快門機能,實現了良好的操作性。
約2000小時超長使用壽命的燈泡大幅降低了使用成本。

 操作性能提升、理環保
比12V100W更亮的高亮度12V50W鹵素燈 新
采用了12V50W的[LV-LH50PC預定心燈箱],與12V100W相比,耗電量削減了約一半,又可達到與其同等甚至更亮的亮度。
燈絲位置經過優化設計,且燈箱里有反光鏡,使照明視場均勻,并提高照明效率。特別是用到50倍以的高倍物鏡時,能得到比12V100W亮約20%的觀察圖象。
更環保,也能防止因熱量而造成的焦面偏移的干擾。
抗污染的防靜電涂層 新
主機、載物臺、鏡筒均涂有消靜電涂層。為了提高抗污染能力,防止工件因靜電感應而受損,從而提高成品率。
可調節到最佳位置進行觀察的正立調傾式三目鏡筒
視場數25的超大視場,可任意設定0~30°的觀察角度。根據使用者體型和觀察姿勢的不同,可將三目鏡筒調節到最佳位置松隨意的進行觀察。

 載物臺微調手輪無需移動工件
不用移動工件,載物臺微調手柄位置固定于顯微鏡主機操作部旁。
所有的操作部都盡在手邊,移動載物臺、對焦等顯微操作,不用抬手,只需動動手腕就可輕松執行。

耐久性比以前高3倍的電動通用物鏡轉換器 新
最多可以安裝到6個物鏡。和偏心較小的物鏡結合使用,用高倍物鏡觀察時切換倍率也很少會出現圖象閃動現象。
從低倍到高倍的自由切換更穩定。考慮到使用者,在旋轉物鏡轉換器時會自動切斷照明光路,避免光直接照射使用者眼晴。
對焦目標
對焦目標可移入光路,這一特性對于裸硅片之類的低對比度工件的正確對焦成為方便。
   ▶ 
顯微鏡操作部位集中于底座前部
操作手輪、按鍵等,都集中于底座前部,更便于使用。一看就能快捷高效的進行顯微操作。大大減輕了長時間觀察的疲勞感。

獲取最佳圖象,提升與顯微鏡用數碼相機的聯動力
 實現了從觀察到圖象拍攝、分析的最佳整體化
  ·尼康開發提供了便于使用的顯微鏡、數碼相機和軟件一體化的高機能設備系統。
  ·支持從設定最佳觀察條件,到數碼拍攝→處理→分析的整個流程。

 
用于LSI檢查顯微鏡 ECLIPSE L200N
Wafer Loader NWL200系列   
 與ECLIPSE L200N相結合,對應最新的硅片檢查需要。
 運用獨立的尼康高端技術,穩定傳輸超薄型100um硅片。   

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